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當前位置：首頁   >  產品中心   >  濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)  >  半自動旋涂顯影刻蝕機

  • LCS半自動旋涂顯影刻蝕機

    LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設計，將是試點項目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。

    訪問次數(shù)：1496
    產品價格：面議
    廠商性質：代理商
    更新日期：2025-07-02
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